SKIN1004 Madagascar Centella Poremizing Clarifying Mask plátenná maska na minimalizáciu pórov 23ml/1kus

Neohodnotené

Jednokroková plátenná maska na minimalizáciu pórov s extraktom zo Centella Asiatica, ktorá kontroluje tvorbu kožného mazu a vyčistí póry. 

Extrakt z pupočníka ázijského (Centella Asiatica) upokojuje pleť, znižuje začervenanie a podporuje obnovu kožnej bariéry.

Himalájska ružová soľ odstraňuje nečistoty z pórov a zjemňuje textúru pleti.

Kyselina jantárová kontroluje tvorbu mazu a zabraňuje nadmernému lesku pleti, pričom zachováva pohodlie pleti.

Kolagén v zložení poskytuje hydratáciu a spevňujúci pocit bez podráždenia pleti.

Po použití masky pleť zostane upokojená, hydratovaná, jemná a póry minimalizované.

Maska je vhodná pre mastnú alebo zmiešanú pleť s viditeľnými pórmi.

štandardná cena: €3 –13 % €2,60
Dostupnosť: Skladom (>5 ks)
Kód: 1005
SKIN1004 Madagascar Centella Poremizing Clarifying Mask plátenná maska na minimalizáciu pórov 23ml/1kus
Neohodnotené
skin1004 madagascar centella poremizing clarifying mask 1pc 550
Akcia Novinka
€3 –13 %
Kvalitná kórejská kozmetika
Kvalitná kórejská kozmetika
tie najznámejšie značky
Darček zdarma
Darček zdarma
ku každej objednávke
Rýchle dodanie
Rýchle dodanie
objednávky odosielame ihneď

Podrobný popis

Výhody:

  • čistí a uvoľňuje upchaté póry
  • minimalizuje viditeľnosť pórov
  • kontroluje prebytočný maz a redukuje nadmerný lesk
  • zjemňuje textúru pleti a vyhladzuje jej povrch
  • upokojuje podráždenie a chráni citlivú pleť
  • zanecháva pleť jasnejšiu a jemnejšiu
  • ideálna pre mastnú a zmiešanú pleť

Návod na použitie: 

1. Vyčistite si pleť a naneste pleťový toner, aby ste si pripravili pleť na ďalší krok. 

2. Vytiahnite masku z obalu a priložte ju na tvár okrem očí a úst.

3. Po 10-20 minútach masku odstráňte z pleti.

4. Prstami si jemne potľapkajte pleť, aby ste uľahčili vstrebávanie ampulky.

Zloženie: 

Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract(1,000 ppm), 1,2-Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Succinic Acid, Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid

Dodatočné parametre

Kategória: Plátenná maska
EAN: 8809913831310

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole:

Bezpečnostná kontrola